2013.02.20 知財トピックス 東アジア情報 [特許/韓国]2012 年特許審査処理期間を14.8カ月に短縮 韓国特許庁は、2012年の審査処理期間を発表した。 これによれば、特許・実用新案は14.8ヵ月、商標・デザインを9ヵ月以内に短縮、2011年と比べてそれぞれ2ヵ月、1ヵ月短縮となった。韓国特許庁は、2015年までに審査処理期間を特許10ヵ月、意匠5ヵ月、商標3ヵ月、そして審判処理期間を7ヵ月に短縮することを目標としている。 KR, 山口和弘
2016.07.05 知財トピックス 日本情報 画像を含む意匠の登録対象拡充等からなる改訂意匠審査基準、2016年4月1日から適用 ~調査負担の軽減を目的とする「画像意匠公報検索支援ツール」もサービス提供中~