［特許／韓国］2011年下半期の特許制度改善事項
| 2011年7月1日から施行される韓国特許制度の改善事項について、以下紹介する。 |
１．明細書における背景技術の記載の義務化
日本の特許法と同様に、明細書に背景技術を記載することが義務化される。2011年7月1日以降に提出される特許出願、実用新案登録出願に適用される。
背景技術記載不備の拒絶理由を受けた場合、背景技術が開示された先行技術文献の情報を追加することにより拒絶理由を解消することが可能である。しかし、背景技術の具体的な説明を追加する補正は新規事項の追加となる可能性が高いので、注意すべきである。
２．米韓PCT‐PPH施行
米国または韓国で行われた国際調査または国際予備審査で肯定的な結果が得られたものを優先審査の対象に含ませる。2011年7月1日以降の申請に適用される。
３．PPH（PCT‐PPHを含む）の優先審査処理期間の調整
優先審査することを決定した日から４ヶ月以内（優先審査の申請日から約５ヶ月以内）に処理することとする。2011年7月1日以降の申請に適用される。
４．分割出願の優先審査申請手続きの改善
分割出願に対して、下記①②を優先審査申請書に添付して提出した場合、別途の専門機関の先行技術調査依頼がなくても、優先審査申請が可能となる。2011年7月1日以降の申請に適用される。
①分割出願の全ての請求項と親出願の請求項との対応関係表
②親出願の専門機関先行技術調査報告書に、分割出願の全ての請求項に対する先行技術調査結果が記載されていることを説明する説明書