2012.11.20 知財トピックス 東アジア情報 [特許/中国]日中特許審査ハイウェイの延長と申請手続簡素化 日本国特許庁は、2011年11月1日より1 年間の期限で行われていた中国特許庁との特許審査ハイウェイを1 年間延長し、2013年10月31日まで試行すると発表した。 なお、試行期間は必要に応じて再度延長される予定である。 試行期間延長に伴い、申請手続の簡素化も図られ、申請に必要な書類の提出が一部不要となった。 CN, 山口和弘
2018.06.05 知財トピックス 日本情報 [特許・不正競争・著作権等/日本]知財関連法改正の審議状況 ~特許・実用新案・意匠「新規性喪失の例外期間延長(6か月→1年)」と商標「分割要件の強化」は、2018年6月9日施行~