特許庁：特許行政年次報告書２００６年版を公表
| 特許庁は、産業財産権に関する政府の取り組み及び統計情報についての情報を報告書に取り纏め公表した。 |
この報告書の中では、外国出願については日本企業の特許、意匠、商標出願の中国へのシフトの傾向が鮮明であることを示している。また、国内については、近年の任期付審査官の採用や先行技術調査外注の拡大により１次審査件数が着実に増加し、２０１３年には世界最高水準の特許出願の審査待ち期間１１ヶ月を目標にしていることが述べられている。
一方で、我が国の知的財産戦略の課題として、国際的に見ると依然として国内特許出願の外国出願率の低さの問題や、経営戦略に沿って出願又はノウハウ秘匿のいずれかを選択する知的財産ポートフォリオの構築の重要性が指摘されている。
詳しくは、以下のホームページを参照されたい。
以上