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2015.12.07知財トピックス東アジア情報
［全般／中国］ 工商行政管理総局、知的財産権濫用による競争排除・制限行為の禁止に関する規定を施行
中国国家工商行政管理総局（以下「工商総局」という）から公表されていた「知的財産権を濫用し競争を排除・制限する行為の禁止に関する規定」が2015年8月1日に施行された。この規定では、パテントプールや、いわゆる標準必須特許の […]
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2015.12.07知財トピックス東アジア情報
［意匠／韓国］ 改訂意匠審査基準が2015年10月1日に施行
韓国特許庁は、2015年10月1日に改訂意匠（デザイン）審査基準を施行した。 今回の改訂では、立体形状を示すための陰影や細線の使用について認める旨が明示された。従前は、「ぼかし線」（アール部分に途切れた状態で引く細線）程 […]
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2015.12.07知財トピックスその他各国情報
［特許／シンガポール、カンボジア］カンボジアでシンガポール特許の再登録が可能に ～シンガポール・カンボジア間の協力体制が具体化～
2015年1月にシンガポール知的財産局（Intellectual Property Office of Singapore；IPOS）とカンボジア工業手工芸省（Ministry of Industry & Han […]
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2015.11.06知財トピックス日本情報
続報：平成27年特許法改正における「職務発明制度の見直し」 ～「特許を受ける権利の原始使用者等帰属」と「相当の利益に関する指針（ガイドライン）」～ （※経済産業省告示に関する追記あり）
（※指針（ガイドライン）に関する続報はこちら） （※末尾に列挙した【関連資料】のうち、平成27年改正後の対応状況等に関する調査研究報告書を紹介した記事はこちら［その１，その２，その３］） 2015年7月10日に公布され、 […]
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2015.11.06知財トピックス米国情報
［特許］米国特許商標庁、パイロットプログラム「AFCP 2.0」の試行期間を延長、「QPIDS」は恒久的なプログラムに（※2018年9月28日時点の情報を反映）
（※AFCP 2.0の試行期間再延長については、別記事又は【出典】（1）参照） （※QPIDSは恒久的なプログラムとなったことについては、別記事又は【出典】（2）参照） （※米国における情報開示義務及び情報開示陳述書（I […]
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2015.11.06知財トピックス米国情報
［特許］ 米国特許商標庁、請願書の審査期間と許可率のデータに関する「Patents Petitions Timeline」を公表
2015年9月3日、米国特許商標庁（USPTO）のブログ「Director’s Forum」において、Lee長官は新たな「Patents Petitions Timeline」のリリースを発表した。 この「P […]
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2015.11.06知財トピックス欧州情報
［特許／EP］欧州特許庁、改訂審査ガイドラインを2015年11月1日から施行 ～プロダクト・バイ・プロセス・クレーム、コンピュータ関連発明等に関するセクションも一部改訂～
欧州特許庁（EPO）は、オフィシャル・ジャーナル2015年9月号にて審査ガイドライン（Guidelines for Examination；審査便覧、審査基準）の改訂（November 2015 edition）を発表し […]
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2015.11.06知財トピックス東アジア情報
［特許／韓国］ 韓国特許庁、特許出願中の製品に特許関連の情報を示す場合における「審査中」の表示を義務化
韓国特許庁は、2015年7月29日施行の特許法施行規則において、審査中の特許出願に係る製品等に特許出願番号等の特許関連の情報を示す場合には、「審査中」と表示することを義務化した。 韓国における特許出願番号と登録番号とは、 […]
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2015.11.06知財トピックス東アジア情報
［特許／中国］ ＜コラム＞中国の特許出願審査におけるプロダクト・バイ・プロセス・クレームの取扱い
中国専利法（日本の特許法、実用新案法、意匠法を含む法律）の発明特許に関する出願審査におけるプロダクト・バイ・プロセス・クレーム（PBPクレーム）等の特殊なクレームの取扱いは、審査指南（審査基準）で詳しく説明されています。 […]
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2015.11.06知財トピックスその他各国情報
［特許／インド］ インド特許庁、コンピュータ関連発明の審査ガイドラインを公表 （※一時保留及び再公表に関する追記あり）
2015年8月21日、インド特許庁は、ソフトウエア関連発明の審査における画一性と一貫性の促進を目的とするガイドライン「Guidelines for Examination of Computer Related Inve […]
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