トピックス

［特許］新規性喪失例外の適用関連大法院判例

自ら公開し、その後に特許出願する場合、韓国で新規性喪失例外の適用を受けるためには、出願時にその旨を記載し、出願日から30 日以内に証明書類を提出しなければならない。出願番号2006-56030 のこの案件は、出願時に […]

2011.09.20

［特許］PATINEX2011

PATINEX（PATent Information Expo）2011 が2011 年9 月6 日韓国ソウルで開かれた。 PATINEX は2 0 0 5 年から毎年行われており、今年は「U . S I P Info […]

［特許／韓国］2011年2/4分期、知的財産権統計

韓国特許庁は、2011 年2/4分期の知的財産権関連の統計を発表した。 2/4 分期の出願件数及び登録件数は下表の通りである。実用新案出願の場合、1/4 分期に続けて減少しており、先登録制度及び二重出願制度の廃止がその […]

［一般／台湾］発明専利加速審査作業方案

blank_page2011 年7 月1 日に、改正した「経済部知恵財産局発明専利加速審査作業方案」が施行された。ここでの「経済部知恵財産局」は、日本の特許庁に相当する。今回の改正点には主に以下の2つがある。 ①加 […]

［一般／中国］上半期に67.6万件の専利出願を受理

2011 年の上半期、中国国家知識産権局は67.6 万件の専利出願を受理し、前年比44.8％増であった。その内訳として、特許出願が21.8 万件、実用新案出願が24.5 万件、意匠出願が21.3 万件である。またその […]

［著作権／中国］上半期のソフトウェア著作権登録件数が4万件を突破

中国版権保護センター（CPCC）の統計によると、今年上半期の中国ソフトウェア著作権登録件数が、初めて4 万件を突破し、44,678 件に達したという。前年同期と比べると9,776 件増加し、28.01％増であった。「 […]

2011.07.20

［特許／韓国］2011年下半期の特許制度改善事項

2011年7月1日から施行される韓国特許制度の改善事項について、以下紹介する。１．明細書における背景技術の記載の義務化日本の特許法と同様に、明細書に背景技術を記載することが義務化される。2011年7月1日以降に提出 […]

2011.07.20

［意匠／台湾］意匠年金大幅な減額

台湾経済部知恵財産局は、2011 年7 月1 日より意匠年金を大幅に減額すると発表した。現行料金（台湾ドル）新料金（台湾ドル）１～３年（毎年）　　2,500 　　800 ４～６年（毎年）　　3, […]

2011.07.20