第9回日米欧中韓五大特許庁長官会合にて、五庁共同声明2016（東京声明）に合意 ～ドシエ情報提供、特許制度調和等の各プロジェクトに関する事項についても合意～
日米欧中韓の五大特許庁は、2016年6月2日に東京で第9回長官会合を開催し、下記の3項目を今後の目指すべき方向性とする五庁共同声明2016（東京声明）に合意した。
- ユーザーとの関係強化
- 高品質で信頼性の高い審査結果の提供
- 発展する新技術への知財庁としての対応
→ IoTやAI等の新技術に対応するための各庁の協力
また、下記の各プロジェクトの成果についても合意等がなされた。
（1）特許出願・審査関連情報（ドシエ情報）の提供
（2）五庁によるPCT国際出願の協働調査の試行
（3）特許審査ハイウェイ（PPH）
（4）特許制度調和
（1）では、ワン・ポータル・ドシエ／グローバル・ドシエ及びWIPO-CASEによる審査関連情報の提供だけでなく、書類のXML化、アラート機能、出願人名称の統一等の更なるサービス向上に関する実施内容についても合意された。
なお、特許情報プラットフォーム（J-PlatPat）でのワン・ポータル・ドシエ機能は、2016年7月25日にリリースされている。
また、（4）では、先行技術の開示義務に関して、「ITシステムを最大限活用しユーザーの負担を軽減する方向性」で合意がなされており、米国特許出願におけるIDS（情報開示陳述書）の負担軽減に繋がる取組が期待される。
【出典】
経済産業省「五庁共同声明2016（東京声明）に合意しました」
Five IP offices「Meeting with IP5 Industry, June 2016, Tokyo, Japan」
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